JD树脂刻蚀及涂层的XPS研究

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JD光学树脂表面刻蚀过程的XPS研究表明,引进树脂遥COH,C=O,C-SO3H,COOH等基因随刻蚀温度的提高或时间的延长而增加,对其相对含量进行了计算,固化后的耐磨涂层具有SiO2结构,JD板材的最佳刻蚀条件为20℃,20min。
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