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离子束辅助镀膜沉积过程中,绝缘工件上的电荷积累效应严重影响了薄膜质量,本文提出了电荷积累的危害,并且提出了三种中和办法,以消除薄膜表面的放电现象.最后经过实验证明分时中和可以很好的抑制电荷积累现象.
宽束冷阴极离子源工作中电荷积累的影响和中和方法
【摘 要】
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离子束辅助镀膜沉积过程中,绝缘工件上的电荷积累效应严重影响了薄膜质量,本文提出了电荷积累的危害,并且提出了三种中和办法,以消除薄膜表面的放电现象.最后经过实验证明分
【机 构】
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西安工业大学光电工程学院
【出 处】
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科技信息
【发表日期】
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2004年期
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