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用数值法分析TF—SOI—MOS管沟道区的电势分布
用数值法分析TF—SOI—MOS管沟道区的电势分布
来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lanyezy
【摘 要】
:
本文对 TF-SOI/MOS管,采取双栅极模型,用有限元和有限差分法分别求解沟道区的电势分布,得到了前栅(front gate)及背栅(back gate)MOS体电势二维分布.总结了指导TF-SOI-MOS 器
【作 者】
:
汤庭鳌
郑大卫
【机 构】
:
FudanUniv
【出 处】
:
半导体学报
【发表日期】
:
1992年12期
【关键词】
:
MOS器件
电热分布
沟道区
Finite difference methodFinite element methodSemiconductor device
【基金项目】
:
电子科学院项目
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本文对 TF-SOI/MOS管,采取双栅极模型,用有限元和有限差分法分别求解沟道区的电势分布,得到了前栅(front gate)及背栅(back gate)MOS体电势二维分布.总结了指导TF-SOI-MOS 器件研制的要点.并对TF-SOI-MOS器件数值模拟方法进行了讨论.
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