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期刊论文
半导体工业中临界尺寸线边缘粗糙度的测量
半导体工业中临界尺寸线边缘粗糙度的测量
来源 :哈尔滨工业大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zxh87
【摘 要】
:
详细论述了刻线边缘粗糙度问题的产生原因,线边缘粗糙度的定义以及目前采用的测量方法和分析方法,比较了线边缘粗糙度的测量工具,并讨论了测量线边缘粗糙度的技术障碍.
【作 者】
:
李洪波
赵学增
褚巍
肖增文
【机 构】
:
哈尔滨工业大学
【出 处】
:
哈尔滨工业大学学报
【发表日期】
:
2005年5期
【关键词】
:
纳米
侧墙粗糙度
线边缘粗糙度
原子力显微镜
Atomic force microscopy
Nanotechnology
Roughness measurem
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详细论述了刻线边缘粗糙度问题的产生原因,线边缘粗糙度的定义以及目前采用的测量方法和分析方法,比较了线边缘粗糙度的测量工具,并讨论了测量线边缘粗糙度的技术障碍.
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