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采用常压化学气相沉积（APCVD）法制备二维六方氮化硼的基本方法,系统探究衬底抛光处理、衬底与前驱体间距、前驱体加热温度、生长温度等对六方氮化硼生长的影响,通过优化调控生长因子,成功制备出高质量单层六方氮化硼薄膜.
常压化学气相沉积法制备二维六方氮化硼
【摘 要】
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采用常压化学气相沉积（APCVD）法制备二维六方氮化硼的基本方法,系统探究衬底抛光处理、衬底与前驱体间距、前驱体加热温度、生长温度等对六方氮化硼生长的影响,通过优化调控生
【机 构】
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厦门大学物理科学与技术学院
【出 处】
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曲靖师范学院学报
【发表日期】
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2017年3期
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