【摘 要】
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晶格参数、应力、应变和位错密度是薄膜材料的几个重要的物理量,X射线衍射(XRD)为此提供了便捷而无损的检测手段.分别从以上几个方面阐述了XRD技术在薄膜材料研究中的应用:介
【基金项目】
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国家高技术研究发展计划(863计划);国家重点基础研究发展规划(973计划);国家自然科学基金
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晶格参数、应力、应变和位错密度是薄膜材料的几个重要的物理量,X射线衍射(XRD)为此提供了便捷而无损的检测手段.分别从以上几个方面阐述了XRD技术在薄膜材料研究中的应用:介绍了采用XRD测量半导体薄膜的晶格参数;结合晶格参数的测量讨论了半导体异质结构的应变与应力;重点介绍了利用Mosaic模型分析位错密度,其中比较了几种不同的通过XRD处理Mosaic模型,且讨论了它们计算位错密度时的优劣.综合XRD技术的理论及在以上几个方面的最新研究进展,对XRD将来的发展做出了展望.
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