【摘 要】
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用射频磁控溅射法在硅衬底上制备出MgxZn1-xO薄膜,研究了溅射功率和淀积时间对薄膜结构特性的影响.X射线衍射(XRD)谱和原子力显微镜(AFM)图像表明:MgxZn1-xO薄膜为六角纤锌矿
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用射频磁控溅射法在硅衬底上制备出MgxZn1-xO薄膜,研究了溅射功率和淀积时间对薄膜结构特性的影响.X射线衍射(XRD)谱和原子力显微镜(AFM)图像表明:MgxZn1-xO薄膜为六角纤锌矿结构,且具有非常好的沿垂直于衬底的c轴的择优取向.随着溅射功率和淀积时间的增加,X射线衍射峰的衍射角变大,半高宽(FWHM)减小,平均晶粒尺寸增加,薄膜结晶质量显著提高.
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