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特征提取在近红外激光检测半导体内微缺陷中的应用

来源 :红外技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：LeoPark

【摘 要】

：

提出了利用近红外激光散射光强分布分析来检测半导体材料内部微体缺陷的检测方法.在研究广义洛仑兹-米氏理论(Generalized Lorenz-Mie Theory)的基础上,通过对理论上散射光强

【作 者】

：

尤政 李颖鹏 李滨 

【机 构】

：

清华大学

【出 处】

：

红外技术

【发表日期】

：

2002年3期

【关键词】

：

近红外激光 缺陷检测 散射 光强分布分析 特征提取 半导体材料 near infrared laserdefect inspectionscatteringli 

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提出了利用近红外激光散射光强分布分析来检测半导体材料内部微体缺陷的检测方法.在研究广义洛仑兹-米氏理论(Generalized Lorenz-Mie Theory)的基础上,通过对理论上散射光强分布的分析,近红外激光散射光强分布空间FFT的截止频率被提取为判定半导体材料缺陷大小的判据,依据这一判据,可以快速的判定微体缺陷的大小.并通过对GaAs样品进行了实验研究,证明了该方法和判据的有效性.

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