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期刊论文
NiCr溅射薄膜厚度分布的Monte Carlo模拟
NiCr溅射薄膜厚度分布的Monte Carlo模拟
来源 :真空电子技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:a3321697
【摘 要】
:
本文采用MonteCarlo(MC)方法对S-枪溅射NiCr薄膜过程进行了计算模拟,得到了沉积粒子在基片上的厚度分布,讨论了不同沉积参数对薄膜厚度分布的影响。
【作 者】
:
于映
陈跃
陈抗生
【机 构】
:
福州大学电子科学与应用物理系,浙江大学信息与电子工程系
【出 处】
:
真空电子技术
【发表日期】
:
1998年2期
【关键词】
:
溅射薄膜
MC法
薄膜
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本文采用MonteCarlo(MC)方法对S-枪溅射NiCr薄膜过程进行了计算模拟,得到了沉积粒子在基片上的厚度分布,讨论了不同沉积参数对薄膜厚度分布的影响。
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