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本文介绍一种自对性P型SiGe调制掺杂的场效应晶体管(MODFET’S)的新工艺,该工艺生产的器件保留了常规MODFET’S的高的调制效率,又克服了常规SiGeMOD-FET的开启电阻高的问题。自校准MOD-FET需要制作布线图案以及在欧姆接触形成以前进行栅金属的蒸发。这就需要一种烧结温度不高的欧姆接触加工方法。栅金属也应提供一个很低的栅电阻,同时经受任欧姆接触所需的温度,而仍具有良好的整流特性。为了满足这些要求,T型栅是需要的。为了避免触及栅的伸出部分,欧姆接触金属层在厚度上是受到严格限制的。1器件结构