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本文阐述了在亚微米接触孔，通孔及沟槽的ＳｉＯ２刻蚀工艺中，沉积和离子散射对剖在贩影响。对多层结构ＳｉＯ２的刻蚀也进行了研究。
沉积和离子散射对亚微米SiO2刻蚀剖面控制的影响
【摘 要】
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本文阐述了在亚微米接触孔，通孔及沟槽的ＳｉＯ２刻蚀工艺中，沉积和离子散射对剖在贩影响。对多层结构ＳｉＯ２的刻蚀也进行了研究。
【出 处】
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微电子技术
【发表日期】
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1995年6期
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