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声光Q开关用1.064μm融石英低损耗增透膜实验研究
声光Q开关用1.064μm融石英低损耗增透膜实验研究
来源 :半导体光电 | 被引量 : 0次 | 上传用户:qwy1234
【摘 要】
:
根据声光腔内调Q对光学薄膜的要求,对1.064μm声光Q开关用融石英低损耗增透膜进行了初步实验研究,通过对工艺因素的比较分析,使用基本配置型国产设备得到了较好的结果。讨论了为
【作 者】
:
谢强
张晓梅
【机 构】
:
四川压电与声光技术研究所
【出 处】
:
半导体光电
【发表日期】
:
2006年4期
【关键词】
:
声光调Q
低损耗薄膜
激光损伤阈值
acousto-optic Q switch
low-loss AR film
laser-induced damage
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根据声光腔内调Q对光学薄膜的要求,对1.064μm声光Q开关用融石英低损耗增透膜进行了初步实验研究,通过对工艺因素的比较分析,使用基本配置型国产设备得到了较好的结果。讨论了为降低薄膜损耗,提高薄膜激光损伤阈值应做的几项工作。
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