【摘 要】
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用紫外-可见光透射光谱(UV-VIS)并结合键结构的X射线光电子能谱(XPS)和红外谱(FTIR)分析,研究了电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积法制备的氟化非晶碳薄膜的光吸收和光学
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用紫外-可见光透射光谱(UV-VIS)并结合键结构的X射线光电子能谱(XPS)和红外谱(FTIR)分析,研究了电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积法制备的氟化非晶碳薄膜的光吸收和光学带隙性质.在微波功率为140-700W、源气体CHF3:C6H6比例为1:1-10:1条件下沉积的薄膜,光学带隙在1.76-2.85eV之间.薄膜中氟的引人对吸收边和光学带隙产生较大的影响,吸收边随氟含量的提高而增大,光学带隙则主要取决于CF键的含量,是由于强电负性F的引入改变了价带带尾附近带隙中态密度的结果所至.
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