采用红外漫反射光谱研究纳米Si3N4的表面结构

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采用付利叶红外漫反射光谱对激光法制取的具有不同化学组成的纳米Si3N4粉(154-30nm)的表面结构,室表面氧化及热稳定性进行了研究,结果表明新鲜的富氮粉体表面主要为硅胺基(Si3-xNHx,x=1-3)结构,粉体暴露空气后硅胺基会与空气中的水分子反应形成硅醇基(SiOH)结构,具有不同组成的粉体随粉中氮含量的增大粒子表面硅胺基量也增加;富硅粉体表面硅胺基较少,其氧化主要为表面硅原子与空气中氧原
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