【摘 要】
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论述了一种扫描式投影曝光光刻机主基板的设计制造过程，在该主基板上需要安装投影物镜和多个纳米级高精度测量分系统。为满足设计需求，规划了整机内部结构所需占用的最小三维空
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论述了一种扫描式投影曝光光刻机主基板的设计制造过程，在该主基板上需要安装投影物镜和多个纳米级高精度测量分系统。为满足设计需求，规划了整机内部结构所需占用的最小三维空间，并基于计算几何的方法设计主基板和测量支架。首先进行数据的采集，对主基板和测量支架的安装面上的接口和支撑位置进行有效定义，明确所有相关接口在三维空间内的位置数据；其次采用凸包算法求解获得主基板多面体的外形轮廓，由于光刻机内部结构的复杂性，还要对模型进行局部修正；再次，结合平面切剖多面体算法设计主基板内部结构；最后，经有限元仿真验证取得了提高振
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