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硅异质结和赝异质结双极器件研究进展
硅异质结和赝异质结双极器件研究进展
来源 :电子学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zhouyueying
【摘 要】
:
本文作者结合自己的工作,综述了硅异质结和赝异质结双极器件的研究进展,指出GeSi HBT将成为双极结构的主流技术,硅赝异质结器件也将在低温应用等方面显示出优势。
【作 者】
:
郑茳
许居衍
【机 构】
:
东南大学-华晶无锡微电子应用研究所
【出 处】
:
电子学报
【发表日期】
:
1995年10期
【关键词】
:
硅
异质结
赝异质结
双极器件
双极晶体管
Silicon
Heterojunction
Pseudo-heterojunction
Bipolar devic
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本文作者结合自己的工作,综述了硅异质结和赝异质结双极器件的研究进展,指出GeSi HBT将成为双极结构的主流技术,硅赝异质结器件也将在低温应用等方面显示出优势。
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