【摘 要】
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一、引言 随着集成电路的发展,集成度的提高,器件尺寸将逐渐缩小,此时RC延迟时间及接触电阻的影响将越来越显著。目前广泛应用的多晶硅栅材料在亚微米技术中已不再适用,取代
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一、引言 随着集成电路的发展,集成度的提高,器件尺寸将逐渐缩小,此时RC延迟时间及接触电阻的影响将越来越显著。目前广泛应用的多晶硅栅材料在亚微米技术中已不再适用,取代它的有硅化物/多晶硅栅。由于TiSi_2的电阻率低,形成温度低,因此是人们最重视的硅化物。本文对反应生成的TiSi_2/poly Si栅结构及TiSi_2/n~+-Si的接触特性进行了系统研究,有助于
I. INTRODUCTION With the development of integrated circuits and the improvement of integration, the device size will be gradually reduced. At this moment, the influence of RC delay time and contact resistance will be more and more obvious. Currently widely used polysilicon gate material in sub-micron technology is no longer applicable, replace it with a silicide / polysilicon gate. Due to its low resistivity and low formation temperature, TiSi 2 is the most important silicide. In this paper, the contact properties of TiSi_2 / poly Si gate structure and TiSi_2 / n ~ + -Si generated by the reaction are studied systematically,
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摘要本文就舞台美术的特性和功能展开阐述，介绍和分析了舞台美术的重要作用，展现了舞台美术美的意蕴和诗的魅力。 关键词：舞台美术 特性 功能 意蕴 创造 综合 中图分类号：J01 文献标识码：A 在源远流长、丰富多彩的戏剧文化中，舞台美术已成为戏剧艺术大厦中不可或缺的一根擎天支柱。著名戏剧家曹禺给了它概括、简明的鉴定：“没有舞台美术就没有戏剧。” 由于戏剧整体的不断发展和整体观念的加强，使
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