飞利浦公布新型半导体技术

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【摘要】

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在2004年12月13日至15日在美国旧金山举行的的IEEE国际电子器件会议(IEDM)上，来自飞利浦的研发专家发表了17余篇关于尖端半导体研发的论文，详细介绍了飞利浦与比利时微电子研究

【出处】

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变频器世界

【发表日期】

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2005年1期

【关键词】

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半导体技术 CMOS工艺晶体管闸极氧化层飞利浦公司电子产业

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在2004年12月13日至15日在美国旧金山举行的的IEEE国际电子器件会议(IEDM)上，来自飞利浦的研发专家发表了17余篇关于尖端半导体研发的论文，详细介绍了飞利浦与比利时微电子研究中心(IMEC)以及Crolles2联盟(飞利浦、飞思卡尔半导体和ST微电子／意法半导体的合作联盟)共同开展的研发项目。这些论文主要介绍65纳米和45纳米节点的CMOS工艺开发，

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