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[会议论文] 作者：侯德胜;冯伯儒;张锦;孙方;,
来源：第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会 年份：2001
介绍制作光刻掩模的一种新方法,即用光致抗蚀剂膜层直接作为掩蔽层来制作光刻掩模.其基本原理是利用光致抗蚀剂对不同波长入射光的透过率不同的特性,选用对曝光波长透过率低...
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