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[期刊论文] 作者：刘多勤,
来源：电子工业专用设备 年份：1993
光刻是集成电路及其它半导体器件制造的核心工艺,号称关键性和战略性技术。本文首先对光刻的概念及其相关词语的含义进行了探讨,试图澄清一些模糊的认识,而后简要地回顾了光...
[期刊论文] 作者：刘多勤,
来源：外语学刊 年份：1983
【正】有关形容动词的词性问题在日语学界长期存在着争论,争论的焦点是:作为词类的划分,它是属于名词(包括体言)范畴,还是动词范畴;是形容动词范畴,还是形容词范畴。第二次世...
[期刊论文] 作者：刘多勤,,
来源：半导体设备 年份：2004
我们应用的各种制版、光刻设备,其目的不外乎将各种掩模图形复制到基片上去。其常用的复制方法,我国目前仍采用光学曝光。无视这一技术对微细图形复印的影响,羌论在国外、国...
[期刊论文] 作者：刘多勤,,
来源：半导体设备 年份：2004
第十六届电子束、离子束、光子束学术讨论会,于5月26日至29日在美国德克萨斯州达拉斯召开。我国代表连同在国外访问的学者共7人出席了这次学术会议。参加这次会议的科技人员...
[期刊论文] 作者：刘多勤,,
来源：半导体设备 年份：1981
近年来反射式扫描投影光刻机得到了很大的发展。无论其设计思想或结构形式都以其独到之处赢得了人们的好评。在大规模和超大规模集成电路工业生产中显示出很大的优越性,如高...
[期刊论文] 作者：Thomas,刘多勤,
来源：电子工业专用设备 年份：1988
IBM公司研究人员于1982年首先将准分子激光技术应用在半导体光刻工艺中。此后,逐步商品化的准分子激光技术成功的用在接触式光刻和掩膜制造工艺中。但其最终目标是将这一技术...
[期刊论文] 作者：周国安,刘多勤,凃佃柳,詹阳,
来源：微纳电子技术 年份：2009
在对电机电流终点检测、光学终点检测以及抛光垫温度检测三种终点检测技术的检测原理、特点及其装置分析讨论的基础上，对终点检测硬件电路的设计效果进行了验证。采用STRASBAU...
[期刊论文] 作者：周国安,刘多勤,徐佃柳,詹阳,
来源：微纳电子技术 年份：2009
在对电机电流终点检测、光学终点检测以及抛光垫温度检测三种终点检测技术的检测原理、特点及其装置分析讨论的基础上,对终点检测硬件电路的设计效果进行了验证.采用STRASBAU...
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