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[期刊论文] 作者：蒋利民,田中群,刘柱方,毛秉伟,黄海苟,孙建军,
来源：电化学 年份：2002
本文概述了现行的金属微区刻蚀方法并详细地介绍几种电化学刻蚀方法,比较了掩膜法、扫描电化学显微镜法、约束刻蚀剂层法、电化学扫描遂道显微镜法和超短电位脉冲法各自的特...
[期刊论文] 作者：钟起玲,胡浪华,刘柱方,王晓聪,张小红,
来源：精细化工 年份：2000
采用循环伏安法研究Pt盘电极(Pt)、铂微粒修饰Pt盘电极［Pt(Pt)］和Pt微粒修饰聚苯胺膜电极［PAN(Pt)］对甲酸电催化氧化行为的影响，比较了它们对甲酸电催化氧化的活性，发现PAN(Pt)电极......
[期刊论文] 作者：刘柱方, 蒋利民, 汤儆, 张力, 田昭武, 刘品宽, 曲东升,,
来源：微纳电子技术 年份：2003
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[期刊论文] 作者：刘柱方,蒋利民,汤儆,刘品宽,孙立宁,田中群,田昭武,
来源：应用化学 年份：2004
运用约束刻蚀剂层技术(CELT)在金属铜(Cu)表面实现了三维微图形加工，取得成功的关键因素在于寻找到能对Cu进行有效CELT加工的化学刻蚀和捕捉体系。采用规整的三维齿状结构为模...
[期刊论文] 作者：刘柱方,蒋利民,汤儆,张力,田中群,田昭武,刘品宽,孙立宁,
来源：电化学 年份：2004
运用约束刻蚀剂层技术(CELT)在金属镍(Ni)表面实现三维微图形加工，以规整的三维齿状微结构作模板，获得可有效CELT加工的化学刻蚀和捕捉体系，在Ni表面得到了与齿状结构互补的三维......
[期刊论文] 作者：刘柱方,蒋利民,汤儆,张力,田昭武,刘品宽,曲东升,孙立宁,,
来源：微纳电子技术 年份：2003
主要介绍了一种Cu的CELT加工的化学刻蚀体系和捕捉体系,并通过控制刻蚀时间、刻蚀电流、刻蚀剂浓度、捕捉剂浓度等实验参数和优化电化学模板的制作工艺, 以规整的齿状结构为...
[期刊论文] 作者：钟起玲，胡浪华，刘柱方，王晓聪，张小红，ZHONGQi-ling，HULang-hua，LIUZhu-fang，WANGXiao-cong，ZHANGXiao-hong,
来源：精细化工 年份：2000
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[期刊论文] 作者：刘柱方,蒋利民,汤儆,张力,田昭武,刘品宽,曲东升,孙立宁,叶雄英,周兆英,田中群,
来源：微纳电子技术 年份：2003
主要介绍了一种Cu的CELT加工的化学刻蚀体系和捕捉体系 ,并通过控制刻蚀时间、刻蚀电流、刻蚀剂浓度、捕捉剂浓度等实验参数和优化电化学模板的制作工艺 ,以规整的齿状结构为...
[会议论文] 作者：刘柱方,周兆英,田中群,蒋利民,汤儆,张力,田昭武,刘品宽,曲东升,孙立宁,叶雄英,
来源：中国微米/纳米第六届学术年会 年份：2003
主要介绍了一种Cu的CELT加工的化学刻蚀体系和捕捉体系,并通过控制刻蚀时间、刻蚀电流、刻蚀剂浓度、捕捉剂浓度等实验参数和优化电化学模板的制作工艺, 以规整的齿状结构为模板, 在Cu的表面实现了三维微结构的复制加工,得到了与齿状结构模板互补的三维微结构,......
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