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[期刊论文] 作者：劉聖烈,崔螢石,金奉柱,柳在一,李禹奉,李貞烈,,
来源：液晶与显示 年份：2006
为了减少制造工艺的过程,改进的4-Mask工艺中采用Al基的数据线已得到进一步的完善。但这个工艺仍存在很多问题,主要是为减少工艺过程,而引入干法刻蚀对Al有腐蚀作用。本文应...
[期刊论文] 作者：宋泳锡,劉聖烈,柳在一,張炳鉉,李禹奉,李貞烈,,
来源：液晶与显示 年份：2006
为了获得更高性能的TFT-LCD面板,在光刻时保证精细的图形成像十分重要,其中,如何制作出尺寸更小的通孔图形是主要的问题之一。本文提供的研究中,我们只简单地改变了一下烘烤...
[期刊论文] 作者：劉聖烈,崔螢石,金奉柱,柳在一,李禹奉,李貞烈,
来源：液晶与显示 年份：2004
为了减少制造工艺的过程,改进的4-Mask工艺中采用Al基的数据线已得到进一步的完善.但这个工艺仍存在很多问题,主要是为减少工艺过程,而引入干法刻蚀对Al有腐蚀作用.本文应用C...
[期刊论文] 作者：宋泳锡,劉聖烈,柳在一,張炳鉉,李禹奉,李貞烈,,
来源：液晶与显示 年份：2004
为了获得更高性能的TFT-LCD面板,在光刻时保证精细的图形成像十分重要,其中,如何制作出尺寸更小的通孔图形是主要的问题之一.本文提供的研究中,我们只简单地改变了一下烘烤工...
[期刊论文] 作者：金奉柱, 崔瑩石, 劉聖烈, 張炳鉉, 柳在一, 李禹奉, 李貞,
来源：液晶与显示 年份：2006
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[期刊论文] 作者：金奉柱,崔瑩石,劉聖烈,張炳鉉,柳在一,李禹奉,李貞烈,,
来源：液晶与显示 年份：2006
为了获得高的开口率,有必要优化设计参数和工艺容差。通常的过孔刻蚀工艺采用SF6基气体进行刻蚀,但是这种方法在金属和钝化层之间的选择性太小,因此,必须增加过孔的尺寸才行...
[期刊论文] 作者：金奉柱,崔瑩石,劉聖烈,張炳鉉,柳在一,李禹奉,李貞烈,Ju,
来源：液晶与显示 年份：2004
为了获得高的开口率,有必要优化设计参数和工艺容差.通常的过孔刻蚀工艺采用SF6基气体进行刻蚀,但是这种方法在金属和钝化层之间的选择性太小,因此,必须增加过孔的尺寸才行....
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