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[期刊论文] 作者：唐在峰,,
来源：广东印刷 年份：1997
一、概述 溶剂在油墨中占有相当大的比例,起着必不可少的作用。但溶剂在油墨中的作用往往未被重视。好象它是挥发份,最后总是要挥发掉而不留在漆膜中,所以对漆膜质量不...
[期刊论文] 作者：唐在峰,,
来源：涂料工业 年份：1998
综述了热固型涂料中溶剂的特性要求，提出了溶剂的选择原则，并介绍了几种常用溶剂。...
[期刊论文] 作者：唐在峰,
来源：云南印刷 年份：1998
目前,在印刷行业,光固化技术是一种较先进的新技术,光固化技术又主要以紫外光光固化(Ultraviolet)为主,简称UV固化,其余还有红外光,可见光固化等.UV固化是利用紫外线中的...
[期刊论文] 作者：唐在峰,
来源：广东印刷 年份：1998
一、简介 目前,在包装印刷行业,光固化技术是一种较先进的新技术。光固化主要以紫外光光固化(Ultraviolet)为主,简称UV固化,其余类别还有红外光、可见光等固化方式。UV...
[学位论文] 作者：唐在峰,
来源：上海大学 年份：2004
立方相的YO晶体具有稳定性好、光学透明区域宽、热导率高等优点，很早以前就被认为是一种非常有前景的固体激光材料。然而，由于其熔点高达2430℃，且在约2280℃附近存在相变，因此用......
[期刊论文] 作者：傅坤, 唐在峰,,
来源：涂料工业 年份：1998
以热固性丙烯酸树脂制备了印铁涂料。讨论了钛白、热固性丙烯酸树脂的用量、溶剂的配比、催化剂的用量对涂料性能的影响。...
[期刊论文] 作者：唐在峰, 吴智勇, 任昱,,
来源：科技资讯 年份：2017
半导体制造过程中,干法刻蚀工艺需要晶圆背面与设备接触,把晶圆固定和支撑住,掌握晶圆背面颗粒状态对半导体工艺制程相当重要。本文主要研究前段刻蚀工艺后晶圆背面颗粒的状...
[期刊论文] 作者：唐在峰,吴智勇,任昱,,
来源：科技展望 年份：2017
半导体制造技术中等离子刻蚀工艺是电路图形最终形成的关键步骤,也被称为半导体制作工艺中的雕刻艺术,刻蚀腔体则相当于雕刻工具,随着使用时间的增加,必然导致刻蚀腔体内部表...
[期刊论文] 作者：任昱,聂钰节,唐在峰,,
来源：科技资讯 年份：2017
刻蚀缺陷是半导体制程中最关键和最基本的问题,理想的等离子体刻蚀工艺过程中,刻蚀气体必须完全参与反应而形成气态生成物,最后由真空泵抽离反应室。但实际上,多晶硅栅极等离...
[期刊论文] 作者：唐在峰,丁君,杨秋红,徐军,
来源：无机化学学报 年份：2006
透明Y2O3陶瓷，具有很好的光学、热学、化学和物理特性。而且在很宽的光谱范围内都光学透明。它本身没有双折射现象．在红外和远红外具有较高的直线透过率，所以，将透明Y2O3陶瓷作为......
[期刊论文] 作者：丁君,杨秋红,唐在峰,徐军,苏良碧,
来源：光子学报 年份：2007
采用传统无压烧结工艺制备Nd^3 ＋掺杂的氧化镧钇透明激光陶瓷,测试了其吸收和荧光光谱.采用Judd-Ofelt理论对Nd^3 ＋掺杂量为1 .5at %的样品光谱参量进行了计算.根据吸收光谱,拟...
[期刊论文] 作者：丁君,杨秋红,唐在峰,徐军,苏良碧,
来源：物理学报 年份：2004
采用传统无压烧结工艺制备了Nd3+掺杂的Y2-2xLa2xO3(x=0.08)透明陶瓷并对其光谱性能进行了研究.结果表明:Nd3+:Y1.84La0.16O3透明陶瓷在780-850 nm的波长范围内有较宽的吸收...
[期刊论文] 作者：丁君,杨秋红,唐在峰,徐军,苏良碧,
来源：物理学报 年份：2004
采用传统无压烧结工艺制备了Yb3+/Er3+共掺的氧化镧钇透明陶瓷并对其光谱性能进行了研究.样品具有较大的吸收和发射截面.La2O3的添加使样品的荧光寿命(τs)与玻璃接近,当Yb3+...
[期刊论文] 作者：杨秋红,徐军,豆传国,张红伟,丁君,唐在峰,
来源：物理学报 年份：2004
研究了La2O3对Yb:Y2O3透明陶瓷光谱性能的影响,添加适量La2O3以后,Yb:Y2O3透明陶瓷的吸收峰和发射峰的位置不变,但由于La3+的离子半径大于Y3+的离子半径,在Y2O3中引入La3+离...
[期刊论文] 作者：杨秋红,丁君,豆传国,胡小曼,徐军,林丽娜,唐在峰,,
来源：硅酸盐学报 年份：2007
用碳酸盐共沉淀法制备一种新的掺钕氧化镧钇（Nd：Y1.84La0.16O3）纳米粉体,得到颗粒细小、均匀、分散性好、粒径为50～60nm的Nd：Y1.84La0.16O3纳米粉体.分别采用Nd：Y1.84La0.16O3纳米...
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