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[会议论文] 作者：唐敏;陈迪;赵小林;倪智萍;朱军;李昌敏;毛海平;,
来源：第四届全国微米/纳米技术学术会议 年份：2000
本文对一种新的负性近紫外光刻胶SU-8的光刻工艺进行了详细研究.SU-8是一种基于环氧树脂的光刻胶,专为要求超厚和高深宽比的MEMS应用而设计,但它对工艺参数的改变非常敏感,难...
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