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[期刊论文] 作者:商世广, 来源:纺织器材 年份:2004
浆斑是浆纱疵点的一个主要因素,浆斑会使相邻纱线粘合,导致浆纱机干分绞和布机织造断头增加;不仅降低了生产效率,而且影响产品的质量.为解决以上的问题,我们进行浆槽加装后盖...
[期刊论文] 作者:商世广, 来源:纺织器材 年份:2004
国产双浆槽浆纱机及进口浆纱机多采用单面上蜡装置,但随着高密细号产品开发的需求,有些产品因上蜡辊的速度低,单面上蜡不能满足上蜡量的要求,甚至没有上蜡;如上蜡辊的速度较...
[期刊论文] 作者:商世广, 来源:陕西纺织 年份:2003
[学位论文] 作者:商世广, 来源:西安工程科技学院 西安工程大学 年份:2005
本文主要介绍无机纳米材料对纯棉轻薄机织物进行抗紫外线、防污整理及抗紫外线防污复合整理。针对目前单一功能特性的有机抗紫外线、防污整理剂耐久性差、有毒副作用及现行纳...
[期刊论文] 作者:杜玉环,商世广, 来源:计算机与数字工程 年份:2020
在锂电池组提供动力的电动汽车中,对锂电池进行准确、可靠的荷电状态估计(State of Charge,SOC)尤为重要。针对传统SOC估算方法存在计算量大、估算不准确等缺点,以Thevenin等...
[期刊论文] 作者:张剑,商世广, 来源:纳米科技 年份:2013
近年来,随着便携式系统和无线通讯系统的迅速发展,电子产品的消费已经转移到射频领域。这为SOI技术的应用开辟了广阔的前景:一方面,由于射频领域的便携式系统和无线通讯系统多数......
[期刊论文] 作者:商世广,朱长纯,, 来源:西安交通大学学报 年份:2007
提出了一种可显著改善宣温下直流磁控溅射氧化铟锡(ITO)薄膜晶体结构、光学和电学性能的后处理方法,将ITO薄膜分别置于氩气、氨气和氧气中进行低温等离子体退火处理.同单纯的退火......
[期刊论文] 作者:商世广, 桂新翔,, 来源:信息技术 年份:2018
为了提高视频熵编码的吞吐率,提出了一种基于上下文自适应二进制算术编码(Context-based Adaptive Binary Arithmetic Coding,CABAC)算法的加速优化方法。采用硬件加速方法将二...
[期刊论文] 作者:商世广,刘卫华, 来源:纳米科技 年份:2010
提出了一种可显著改善丝网印刷碳纳米管(CNTs)薄膜场发射特性的浆料制备方法。该方法以乙基纤维素为制浆剂,松油醇为溶剂,通过超声波把CNTs和TiO2粉体均匀地分散成CNTs/TiO2复...
[期刊论文] 作者:商世广,王进美, 来源:陕西纺织 年份:2004
目前市场上流行的防紫外产品很多,主要是通过紫外线遮蔽剂提高纺织品紫外的吸收、反射、散射能力;其中紫外线遮蔽剂包括有机和无机两大系列。常用的有机吸收剂有水杨酸系、二苯......
[期刊论文] 作者:商世广,敬凌宵, 来源:北京纺织 年份:2004
[会议论文] 作者:朱长纯;商世广;, 来源:第九届真空技术应用学术年会 年份:2006
将直流磁控溅射法在低温下制备的ITO薄膜,分别置于氧气、氨气和氧气中退火和相应的等离子体处理,在相对低的激下得到晶体结构性能、光学性能和电学性能优异的ITO薄膜.当处理...
[会议论文] 作者:商世广,王进美, 来源:第四届全国功能性纺织品及纳米技术应用研讨会 年份:2004
本文在筛选出最优的纳米分散剂、乳化剂基础上,采用合理的分散整理流程;使纳米颗粒分散成双电层的微乳液,进行变量、正交试验,选出最佳工艺。...
[会议论文] 作者:商世广,王进美, 来源:第三届中国(西安)纳米科技研讨会 年份:2004
本文根据天然纤维的特点,采用系统科学的研究方法,筛选出较佳的纳米分散剂、乳化剂,采用合理的分散整理流程,使纳米颗粒分散成双电层的乳状液。通过对纯棉机织物进行整理,拒水拒油综合性测试评价分析,形成最佳的纳米拒水拒油整理剂;开发具有舒适性与功能性为一体的纺织......
[会议论文] 作者:商世广,朱长纯, 来源:第八届中国纳米科技西安研讨会 年份:2009
本文提出了一种可显著改善丝网印刷碳纳米管(CNTs)薄膜场发射特性的浆料制备方法。该方法以乙基纤维素为制浆剂,以松油醇为溶剂,通过超声波把CNTs和TiO2粉体均匀地分散成CNTs/TiO2复合浆料。扫描电镜表明,丝网印刷的CNTs/TiO2薄膜在高温下烧结后,形成连续的膜体,CNTs被......
[期刊论文] 作者:商世广, 程亭, 杜玉环,, 来源:西安邮电大学学报 年份:2017
采用以二水合钨酸钠 、 硫酸钾和草酸的混合溶液为前驱液的水热法制备三氧化钨( WO3 )纳米线 , 研究了 添加 HC1含量、水热温度和保温时间对 WO3 纳米线微观结构的影响 .分别利...
[期刊论文] 作者:陈海峰,过立新,商世广, 来源:纳米科技 年份:2012
研究了90nmCMOS工艺下4nm超薄栅氧化层LDDnMOSFET中漏电压VD对栅调制产生电流‰的影响,随着VD的增加,IGD曲线上升沿不变,而下降沿向右漂移,这归因于VD增大引发了闽值电压增大所致...
[期刊论文] 作者:商世广,朱长纯,李昕,, 来源:西安交通大学学报 年份:2008
针对丝网印刷碳纳米管(CNTs)薄膜阴极场发射能力差和寿命短等问题,提出了一种能有效改善其场发射性能的高温烧结和等离子轰击后处理方法.同其他方法相比,该方法避免了直接接触......
[期刊论文] 作者:商世广,朱长纯,贺永宁, 来源:功能材料与器件学报 年份:2008
用直流磁控溅射和热氧化法在玻璃衬底上制备ZnO/In2O3透明导电多层膜,当总厚度一定时,调节溅射沉积的层数与相应各层膜的厚度,研究该多层膜微观结构、光学性能和电学性能的变化。......
[期刊论文] 作者:宋含玥,曹翠珍,商世广,, 来源:集成电路应用 年份:2017
如今,人类已进入到物联网时代,在智能硬件需求的牵引下,半导体产业成为带动国民经济发展的命脉产业之一,其发展受到国家及社会的广泛关注。2013年国家主席习近平提出"一带一...
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