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[期刊论文] 作者：孙伟,郝男,王红艳,
来源：企业技术开发：下 年份：2009
文章阐述了一些制备ZnO纳米半导体材料的常用技术，如模板制备法、物理气相沉积、脉冲激光沉积、分子柬外延、金属有机化合物气相沉积，并分析了各种方法的优缺点。...
[期刊论文] 作者：孙 伟 郝 男 王红艳,
来源：企业技术开发·下半月 年份：2009
摘要:文章阐述了一些制备ZnO纳米半导体材料的常用技术,如模板制备法、物理气相沉积、脉冲激光沉积、分子束外延、金属有机化合物气相沉积,并分析了各种方法的优缺点。 关键词:ZnO;模板制备法; PVD; PLD; 金属有机化合物气相沉积 中图分类号:TN304文献标......
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