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[期刊论文] 作者：孙碧武,谢侃,
来源：半导体学报 年份：1992
用电子能量损失谱(EELS)研究了金刚石膜、类金刚石膜和高取向石墨的特征能量损失峰.金刚石膜的特征峰主要是5.4eV和15eV的带间跃迁,23eV和34eV的表面等离子激元和体等离子激...
[期刊论文] 作者：孙碧武,刘朝晖,
来源：自然科学进展：国家重点实验室通讯 年份：1995
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[期刊论文] 作者：江南,张泽,孙碧武,
来源：电子显微学报 年份：1993
金刚石薄膜在电子器件应用方面具有广泛前景。其表面与界面研究,具有重要意义。本文用高分辨电子显微学研究了金刚石薄膜生长初期,金刚石微晶与Si衬底之间的界面形态和...
[期刊论文] 作者：孙碧武,林彰达,
来源：真空科学与技术 年份：1993
本文第1部分评述了低压气相合成金刚石的进展。第2部分介绍了用表面分析方法和HREM对金刚石(111)和(100)面的生长机理,原子氢和氧对金刚石生长本身的影响,亚稳态条件下金刚石...
[期刊论文] 作者：林彰达,孙碧武,
来源：薄膜科学与技术 年份：1991
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[会议论文] 作者：林彰达,孙碧武,
来源：第七届全国凝聚态理论和统计物理学术会议 年份：1993
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[期刊论文] 作者：孙碧武,刘朝晖,林彰达,
来源：Progress in Natural Science 年份：1994
The low-pressure chemical vapour deposition (CVD) of diamond takes place under the temperature-pressure condition under which diamond is metastable with respec...
[期刊论文] 作者：孙碧武,刘朝晖,林彰达,
来源：自然科学进展 年份：1995
低压气相生长金刚石是在石墨处于稳态而金刚石处于亚稳态条件下进行的。利用原子H对石墨的腐刻速率比对金刚石要大两个数量级,在生长室中加入过饱和的原子氢,造成有利于金刚...
[期刊论文] 作者：孙晓峰,孙碧武,管恒荣,李铁藩,
来源：材料科学进展 年份：1991
本文研究了渗 Al 处理对低压等离子喷涂金属-氧化物扩散障作用的影响。发现短时间渗Al 处理,能提高扩散障对涂层与基体之间元素互扩散的阻碍作用。延长渗 Al 时间,扩散障中弥...
[期刊论文] 作者：孙碧武,管恒荣,孙晓峰,李铁藩,,
来源：金属学报 年份：1991
本文在Luthra模型基础上考虑到氧化物的加入对元素通过短路通道的扩散没有阻碍作用,建立了金属-氧化物扩散障的修正模型。计算结果与实验规律吻合。...
[期刊论文] 作者：孙碧武,管恒荣,孙晓峰,李铁藩,
来源：金属学报 年份：1990
本文研究了低压等离子喷涂的Ni_3Al-Y_2O_3扩散障层对外层涂层与基体间元素互扩散的阻碍作用,发现阻碍扩散的作用与扩散障层中氧化物含量有关。当Y_2O_3含量为8wt-%时,扩散障...
[期刊论文] 作者：孙碧武,管恒荣,孙晓峰,李铁藩,
来源：金属学报 年份：1990
本文研究了低压等离子喷涂的Ni_3Al-Y_2O_3扩散障层对外层涂层与基体间元素互扩散的阻碍作用,发现阻碍扩散的作用与扩散障层中氧化物含量有关。当Y_2O_3含量为8wt-%时,扩散障...
[期刊论文] 作者：孙碧武,张青哲,齐上雪,谢侃,林彰达,
来源：真空科学与技术 年份：1991
用高分辨电子能量损失谱（HREELS）研究了用热丝CVD（HF CVD）方法生长的多晶金刚石薄膜表面的振动谱。发现HREELS可以用来研究多晶金刚石薄膜表面的吸附分子的振动。生长的样品不作...
[期刊论文] 作者：陈岩,陈启谨,崔玉德,孙碧武,林彰达,
来源：真空科学与技术 年份：1994
用俄歇子能谱（AES）研究了热丝法生长金刚石膜中未经划痕处理的单晶硅衬底在不同沉积时间下的表面结构及Si，C，O元素浓度的深度分布。结果表明：在沉积过程中，随沉积时间增加时，基材表......
[期刊论文] 作者：孙碧武,谢侃,赵铁男,刘竞青,齐上雪,张晓平,高志强,林彰达,
来源：半导体学报 年份：1992
用电子能量损失谱(EELS)研究了金刚石膜、类金刚石膜和高取向石墨的特征能量损失峰.金刚石膜的特征峰主要是5.4eV和15eV的带间跃迁,23eV和34eV的表面等离子激元和体等离子激...
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