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[期刊论文] 作者：宋之洋,郭沫然,苏晓菁,刘艳松,粟雅娟,韦亚一,,
来源：微纳电子技术 年份：2015
目前小技术节点的光学邻近效应校正(OPC)过分依赖光刻机与光刻工艺的属性,量产时难以在不同型号光刻机间转移,而国内芯片制造厂光刻机种类繁杂,不可避免地需要解决工艺转移的...
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