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[期刊论文] 作者：尤大纬,
来源：电工电能新技术 年份：1993
宽束考夫曼离子源被广泛地应用于薄膜工艺刻蚀、镀膜、注入诸领域。近20年来考夫曼离子源在我国得到了迅速的发展。至此已有必要提出正确的使用方法。以纠正一些错误的用法。...
[期刊论文] 作者：尤大纬,
来源：电工电能新技术 年份：1989
为了提高溅射沉积的速率,减小溅射弥散,节省昂贵靶材的使用,同时也为了降低对沉积薄膜的污染,有必要使用高束流密度的聚焦离子束。通常聚焦束采用向心盘栅把多个最佳聚焦的子...
[期刊论文] 作者：尤大纬,
来源：微细加工技术 年份：1992
近十年来,我国采用离子束刻蚀进行微细加工以及离子束辅助镀膜在电子和光学工业中获得了广泛应用。采用离子束增强镀膜制造超导膜、贮氢合金膜以及离子束注入表面改性等...
[期刊论文] 作者：尤大纬,
来源：微细加工技术 年份：1989
为了提高溅射沉积的速率,减小溅射弥散,节省昂贵靶材的使用,同时也为了降低对沉积簿膜的污染,有必要使用高束流密度的聚焦离子束。通常聚焦束采用向心盘栅把多个最佳聚焦的子...
[期刊论文] 作者：尤大纬,
来源：微细加工技术 年份：2004
本文介绍了一种离子束辅助薄膜沉积的新工艺,它可以大大降低膜的接触电阻、提高膜的附着力,提高膜的质量,消除膜的应力。In this paper, a new technique of ion beam assi...
[期刊论文] 作者：尤大纬,,
来源：电气时代 年份：1984
六十年代初,人们开拓了一门崭新技术——微细加工技术。微细加工是以加工的分辨率达到微未级为其特征的。微细加工包罗了电工学、光学、磁学、热学等方面所需元器件的加工。...
[期刊论文] 作者：尤大纬,田丰,
来源：真空科学与技术 年份：1988
一、引言离子束镀膜是利用从离子源引出的带能离子束,在无场的高真空(10~(-4)～10~(-5)托)环境中轰击所选择的靶材,溅射出二次原子,沉积在工件上成膜。离子束镀膜具有控制精确...
[期刊论文] 作者：林永昌,尤大纬,
来源：仪器仪表学报 年份：2000
等离子辅助沉积技术是一种能大规模高质量制造光学膜的技术，本文报道了等离子辅助源的性能指标，用这个源制造的ＴｉＯ２膜工艺与成膜质量，以及用等离子辅助生产减反膜的工艺．......
[期刊论文] 作者：尤大纬,李文治,
来源：真空科学与技术 年份：1994
介绍离子束增强沉积镀膜技术的国内外主要机型及工艺进展，特别是我们实验室离子束增强镀膜新工艺的进展。更多还原...
[期刊论文] 作者：王宇,尤大纬,
来源：真空科学与技术 年份：1995
利用离子束共混制备具有高硬度、高熔点及良好化学稳定性的Ｃ，Ｂ化合物对于彩和离子束增强沉积技术进行材料表面改性有重要意义。利用对烧结碳化硼合物靶进行溅射沉积，同时利用不同......
[期刊论文] 作者：尤大纬,李安杰,
来源：微细加工技术 年份：1993
线状离子源适合于大面积材料的连续溅射改性过程。多极场设计技术在3×20cm线状离子源的放电室中有很好的应用。...
[期刊论文] 作者：尤大纬,冯敏材,
来源：微细加工技术 年份：1996
本文叙述了对材料表面改性的宽束离子源的要求，重点介绍了考夫曼型气体离子源及电子束蒸发强流金属离子源，也介绍了ＲＦ、ＥＣＲ离子源及ＭＥＶＶＡ源。...
[会议论文] 作者：冯毓材;尤大纬;,
来源：迈向21世纪的电工科技学术会议 年份：1996
文中介绍了一种新型的电子束蒸发强流气固两用离子源（ＥＢＥ）。该源的基本原理是将电子束蒸发技术引入离子源放电室内，使材料的蒸发和游离在同一放电室内完成。该源不仅能引出包括各种......
[会议论文] 作者：高福中,尤大纬,
来源：第六届电子束离子束学术年会 年份：1995
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[会议论文] 作者：尤大纬,冯毓材,
来源：’94秋季中国材料研讨会 年份：1994
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[期刊论文] 作者：尤大纬,孟宪光,
来源：电工电能新技术 年份：1984
宽束离子源区别于一般的窄束离子源.它通过多孔栅引出离子束.在空间很多个子束经过均匀混合下形成大面积的离子束.在同样的加速电压下,它能产生比单孔栅面积更大、束流更强...
[期刊论文] 作者：王宇,尤大纬,夏磊,
来源：真空科学与技术 年份：1995
利用离子束共混制备具有高硬度、高熔点及良好化学稳定性的C，B化合物（如：碳化硼、硼化钛等），对于采用离子束增强沉积技术进行材料表面改性有重要意义。利用对烧结碳化硼化合物靶进......
[期刊论文] 作者：尤大纬,冯毓材,王宇,
来源：微细加工技术 年份：1996
本文叙述了对材料表面改性的宽束离子源的要求，重点介绍了考夫曼型气体离子源及电子束蒸发强流金属离子源，也介绍了ＲＦ、ＥＣＲ离子源及ＭＥＶＶＡ源。This paper describes the requirements of......
[期刊论文] 作者：林永昌,尤大纬,李晓谦,沈立新,郑陪雨,
来源：仪器仪表学报 年份：2000
等离子辅助沉积技术是一种能大规模高质量制造光学膜的技术 ,本文报道了等离子辅助源的性能指标 ,用这个源制造的Ti O2 膜工艺与成膜质量 ,以及用等离子辅助生产减反膜的工艺...
[会议论文] 作者：尤大纬,王宇,李晓谦,王怡德,林永昌,
来源：中国电工技术学会第六届学术会议 年份：1999
该文就研制先进等离子体源(GIS)的意义，设计及调试进行了论述。...
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