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[学位论文] 作者：尹津龙,
来源：中国科学院上海光学精密机械研究所 年份：1999
该文综述了光存储技术的研究现状及发展趋势,重点介绍了有机光致变色材料以及酞菁薄膜的研究状况,在此基础上,采用LB、旋涂等技术手段制备了多种酞菁薄膜,研究了它们的光谱性...
[学位论文] 作者：尹津龙,
来源：南开大学 年份：1996
在α-AlO多孔载体上,使用不同的合成体系,通过XRD测试证明均合成出了分子筛膜.这些体系包括:正硅酸乙酸-仲丁醇铝-乙醇钠-水体系,已二胺-硅溶胶-氢氧化钠-水体系,四乙基氢氧...
[期刊论文] 作者：尹津龙,
来源：激光与光电子学进展 年份：1997
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[期刊论文] 作者：尹津龙,
来源：激光与光电子学进展 年份：2001
1 引言用于频域激光数据存储的光谱烧孔技术在小型存储器件领域具有很好的潜在应用前景。由于掺稀土的碱土金属硫化物是一种潜在的高效频域存储材料 ,我们详细研究了这种材...
[期刊论文] 作者：尹津龙,
来源：激光与光电子学进展 年份：1997
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[期刊论文] 作者：尹津龙,张常山,
来源：膜科学与技术 年份：1997
综述了几种用于减小无机陶瓷膜孔径的修饰技术，其中重点介绍了溶胶－凝胶法和化学气相沉积法。...
[期刊论文] 作者：尹津龙,郑文莉,
来源：北京同步辐射装置年报 年份：1998
将四新戊氧基酞菁锌的甲苯溶液旋涂成膜，经光学显微镜观察，薄膜表面光滑连续，小角度X射线衍射谱图中有规律的Keissig干涉峰说明膜厚均匀，红外反向光谱显示，未加热的薄膜中的分子排......
[期刊论文] 作者：尹津龙,梁培辉,
来源：功能材料与器件学报 年份：1999
制备了四新戊氧基酞菁锌的ＬＢ膜和旋涂膜，测定了这两各大不同温度退火后的吸收光谱，采用ｐ－ｗ偏振双面反射法测定了两种薄膜在不同温度退火后的折射率ｎ和消光系数ｋ，发现这两种薄膜不仅具有......
[期刊论文] 作者：顾铮先,尹津龙,
来源：光子学报 年份：2000
制备了四新戊氧基酞菁锌ＬＢ膜和旋涂膜，采用ｐ偏振反射法测定了两种薄膜 在不同温度退火后的折射率ｎ和消光系数ｋ，发现这两种薄膜不仅表现出了相拟的光学常数的数值，而且具有相似的随温......
[期刊论文] 作者：尹津龙,侯立松,罗山,
来源：激光与光电子学进展 年份：1997
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[期刊论文] 作者：尹津龙,顾冬红,干福熹,
来源：光学学报 年份：1999
在玻璃基片上制备了四新戊氧基酞菁锌（Ｔｅｔｒａ－ｎｅｏｐｅｎｔｏｘｙｐｈｔｈａｌｏｃｙａｎｉｎｅＺｉｎｃ，ＴＮＰＰｃＺｎ）的旋涂膜，通过测定该薄膜在不同温度退火后的吸收光谱和Ｘ射线衍射谱图，研究了酞菁分子聚集体在薄膜中的变化。随着温度的升高，单体逐渐转变为......
[期刊论文] 作者：顾铮天,尹津龙,梁培辉,干福熹,
来源：光子学报 年份：2000
制备了四新戊氧基酞菁锌 L B膜和旋涂膜 ,采用 p偏振反射法测定了两种薄膜在不同温度退火后的折射率 n和消光系数 k,发现这两种薄膜不仅表现出了相似的光学常数的数值 ,而且...
[期刊论文] 作者：顾铮(一先),尹津龙,梁培辉,干福熹,,
来源：黑龙江科技信息 年份：2000
本文通过对荣华二采区10...
[期刊论文] 作者：王双青,沈淑引,许慧君,顾冬红,尹津龙,唐晓东,,
来源：感光科学与光化学 年份：2004
偶氮染料是一类广泛应用的纺织用有机染料[1],近年来随着光电子技术的发展,偶氮染料作为非线性光学材料[2]和光信息记录介质[3]引起人们极大的兴趣.偶氮染料具有对光吸收大,...
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