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[期刊论文] 作者：石井正司,郡司挂维昭,尾形好雄,长谷川正志,趙文霞,
来源：电子器件 年份：1979
向硅中进行杂质扩散,除了采用液态或气态杂质源外,还可以采用固体片状杂质源。已经证明,采用片状氮化硼能够进行稳定的B扩散(特别是大面积Si片,效果更为显著)。 我们以前曾...
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