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[学位论文] 作者：康崴铃,
来源：北京大学 年份：2013
基于芯模(mandrel)和侧墙(spacer)工艺的自对准多重图案成形技术(self-aligned multiple patterning，SAMP)，有可能将集成电路的最小空间半周期推至亚15纳米，近来受到了半导体产...
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