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[期刊论文] 作者：徐增喜,
来源：微电子学 年份：2004
关于OMR81在本公司新研制成功了一种在半导体集成电路,金属掩模,大面积集成等微小型器件的制造中最适用的,用特殊方法制成的光致抗蚀剂,这些抗蚀剂在现阶段光致抗蚀剂中属于...
[期刊论文] 作者：徐增喜,
来源：微电子学 年份：2004
1.概要G—90是为彩色显象管中屏板和集成电路的引线座等金属制品的光刻用的:是本公司研制出耐氯化铁,重铬酸铵系的水溶性的感光材料。G—90由于化学性能稳定,可作为特精密的...
[期刊论文] 作者：徐增喜,
来源：微电子学 年份：1975
大规模集成电路(LSI),随着集成度的发展,图形愈趋微小型化,并且对尺寸,位置精度的要求也愈趋严格。从光刻掩摸的制造,到光致抗蚀剂的去除,整个光刻工序中的每一个工艺(...
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