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[会议论文] 作者：曹宇;张建军;倪牮;王先宝;黄振华;孙健;耿新华;赵颖;,
来源：第十一届中国光伏大会暨展览会 年份：2010
本文采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECvD)技术，采用适当比例的硅烷、锗烷、氢气作为反应气源，在衬底温度为200℃条件下制备微晶硅锗薄膜。首先研究了辉光功率对微晶硅...
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