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[期刊论文] 作者：朱心才,,
来源：低温与特气 年份：1985
本文介绍了氟硼酸钠热分解（热分解前原料经过纯化处理，并严格控制分解湿度）制得纯度大于4N三氧化硼的方法、原理和试验结果。本产品中杂质含量为N2+O2＜20ppm，SO2＜10ppm，SiF4＜20ppm，SO4......
[期刊论文] 作者：朱心才,
来源：低温与特气 年份：1991
二氯化硼除作为阳离子聚合催化剂和硼化合物的原料外,还用作半导体的掺杂剂或蚀刻剂,但要求纯度特别高。三氯化硼一般的合成方法有:(1)在高温下,将碳和氧化硼与氯进行氯...
[期刊论文] 作者：朱心才,
来源：低温与特气 年份：1997
三氯化硼是电子工业和光纤工业的重要原材料之一，其纯度直接影响所制器件的性能。采用４＃吸附剂吸附法和蒸馏法对粗制三氯化硼进行提纯，提得度大于５Ｎ的三氯化硼。...
[期刊论文] 作者：朱心才,
来源：理论与创新 年份：2020
【摘 要】当一个地方要想真正发展起来，必须同时具备“郎”有“情”，“妾”有“意”，才能成就美好“姻缘”。人才是引不来的，机制不变，引来也会饿死、溜掉、同化而泯然众人，成为僵化的同谋。当务之急，爱才、练才、育才督促成才;引才、留才，用才发挥其才。从能决定这些的......
[期刊论文] 作者：韩美, 朱心才,,
来源：低温与特气 年份：2004
在溶剂存在下，使硼氢化钠与三氯化硼反应，制取Ｂ２Ｈ６。此时，反应温度为－１０～３５℃，充入为硼氢化钠的０．１２～０．１６倍ｍｏｌ的三氯化硼，使其进行第１步反应，在２０～６０℃时，充入为硼氢化钠０．１７～０．２１倍ｍｏｌ的三氯化硼，进行第２步反应。这就是乙硼烷......
[期刊论文] 作者：韩美,朱心才,
来源：低温与特气 年份：1984
株式会社铃木商馆低温机器部已从1978年开始出售两种类型液氦液面计。这次，又发表了经过改进的连续式和探头式两种类型的液氦液面计。本文主要就其中提高了可靠性和操作简便的......
[期刊论文] 作者：韩美,朱心才,
来源：低温与特气 年份：1984
日本新世界电机公司出售的气体泄漏检测器是用灯泡和蜂呜器确定泄漏处，所以，不象以前用肥皂液检测那样麻烦，即使经验不足的人也可使用。从城市煤气、液化石油气等的供给租消费设......
[期刊论文] 作者：朱心才,韩美,
来源：低温与特气 年份：1985
十、利用灭菌剂灭菌的方法 灭菌装置的流程图 例1 窖器式(图6) 用途 用加热器把灭菌器加热至40～60℃。...
[期刊论文] 作者：韩美,朱心才,
来源：低温与特气 年份：1998
乙硼烷纯化方法的特点是采用充填吸附剂的充填塔，通过低温加压蒸馏，来纯化含有低沸点和高沸点杂质的粗制乙硼烷。吸附剂使用沸石分子筛。再沸器的温度为－９０℃～－２０℃。蒸馏系统的压力为０．０１ＭＰａ～１．５ＭＰａ（表压）。......
[期刊论文] 作者：韩美,朱心才,
来源：低温与特气 年份：1998
硫化氢的制造方法及其装置该方法是将氢气通入充填在反应器内的温度为２５０℃以上的硫液相部分，使硫与氢气在硫液相部分内反应生成硫化氢。该方法的特点是，在反应器的气相部分，使用带有使硫蒸汽回流的内部回流装置的反应器，并使生成的硫化氢气体在内部回流装置中与硫.........
[期刊论文] 作者：久保田芳宏, 木村昇, 朱心才,,
来源：低温与特气 年份：2004
二氯化硼除作为阳离子聚合催化剂和硼化合物的原料外,还用作半导体的掺杂剂或蚀刻剂,但要求纯度特别高。三氯化硼一般的合成方法有:(1)在高温下,将碳和氧化硼与氯进行氯...
[期刊论文] 作者：前田祯彦, 小林雄之, 朱心才,,
来源：低温与特气 年份：2004
本发明是关于高纯液态CO2的生产方法及装置。用该生产方法和装置,能获得比用以往生产方法制得的99.9％纯度更高的产品。用过去生产方法生产的液态CO2纯度,大致为99.9％。但...
[期刊论文] 作者：米田登贵彦,韩美,朱心才,
来源：低温与特气 年份：1985
防止泄漏的措施很多，在可动部件的转动处、滑动处、法兰连接等部位、清除口、安全阀、出口、排放管等处均应预防泄漏。而且，由于在定期检查、维修施工等情况下，操作现场的大气难......
[期刊论文] 作者：岩尾徹也, 丰田芳昭, 朱心才,
来源：低温与特气 年份：1985
...
[期刊论文] 作者：奈部川修吉,高桥宏一,朱心才,
来源：低温与特气 年份：1986
该磷烷纯化方法的特点是,在无氧状态下,将含有杂质砷氢化物的粗制磷烷与活性炭接触,使处理的磷烷量小于活性炭重量,从而吸附除去了砷氢化物。吸附剂活性炭在使用结束后,进行加热抽空再生,可反复使用。......
[期刊论文] 作者：大塚丰三,木次直道,朱心才,韩美,
来源：低温与特气 年份：1986
本方法的特点是以硫酸为介质，使二氧化硅和氟化氢接触反应，从而得到四氟化硅。此时，保持硫酸介质浓度在80％以上。...
[期刊论文] 作者：大塚丰三,木次直道,朱心才,韩美,
来源：低温与特气 年份：1986
本发明是关于制取适用于电子材料、太阳能电池元件等非晶硅半导体的高纯四氟化奎，是将含有SiOF2、(SiF3)2O、(SiF2)2SiF2O2等含氧氟化砖及SO2、SO2、H2S等硫化物的四氟化硅进...
[期刊论文] 作者：前田祯彦,小林雄之,朱心才,管英衔,
来源：低温与特气 年份：1986
本发明是关于高纯液态CO2的生产方法及装置。用该生产方法和装置，能获得比用以往生产方法制得的99．9％纯度更高的产品。...
[期刊论文] 作者：高建国,李宗芸,朱心才,王秀琴,冯浩,,
来源：江苏农业科学 年份：2007
通过不同梯度质量浓度的叠氮化钠与硫酸铈铵对玉米根尖进行处理,研究其对玉米根尖细胞的遗传毒性。结果表明,硫酸铈铵对玉米根尖细胞的微核和有丝分裂的影响存在一定的剂量关...
[期刊论文] 作者：岩尾徹也,丰田芳昭,朱心才,韩美,王玉杰,
来源：低温与特气 年份：1985
本方法的特点是在溶剂中还原乙硅烷衍生物得到乙硅烷，在常压或加压下进行反应，而且在加温至10～80℃的反应液中吹入惰性气体，从溶剂中可分离出乙硅烷。...
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