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[会议论文] 作者:李俊宁,吴明,李堂源,吴萍,娄晓杰, 来源:中国物理学会2015年秋季会议 年份:2015
  水平靶磁控溅射系统可以制备厚度为100nm以下的薄膜,且其制备的薄膜的质量要明显优于垂直靶磁控溅射系统制备的薄膜。在本实验中,我们采用水平靶进行溅射,在Pt(111)/Ti/S...
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