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[期刊论文] 作者：杨杰,刘焰发,村原正隆,
来源：科学通报 年份：2004
讨论了一种在硅片上进行无抗蚀膜光化学蚀刻的方法,使用过氧化氢和氟化氢混合水溶液作为化学媒质,分别使用193 nm准分子激光和266 nm四倍频固体Nd:YAG激光作为光源.实验结果...
[期刊论文] 作者：杨杰,刘焰发,村原正隆,
来源：中国激光 年份：2002
研究了一种在硅片上进行无抗蚀膜光化学蚀刻的新方法 ,使用过氧化氢 (H2 O2 )和氟酸 (HF)作为光化学媒质 ,使用ArF紫外激光作为光源 ,无需事先加工抗蚀膜 ,可直接在硅表面进...
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