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[期刊论文] 作者:单学传, 前田龙太郎, 池原毅,
来源:纳米技术与精密工程 年份:2005
利用自感应耦合等离子(ICP)蚀刻机进行硅深层反应离子刻蚀,得到了几微米宽的狭槽,其轮廓通常为正锥形,即蚀刻槽的宽度随着蚀刻深度的增大而减小.然而,对一个宽槽来说,由于等...
[期刊论文] 作者:单学传,前田龙太郎,池原毅,
来源:纳米技术与精密工程 年份:2005
利用自感应耦合等离子(ICP)蚀刻机进行硅深层反应离子刻蚀,得到了几微米宽的狭槽,其轮廓通常为正锥形,即蚀刻槽的宽度随着蚀刻深度的增大而减小.然而,对一个宽槽来说,由于等...
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