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[期刊论文] 作者：浅利正敏,吴健昌,
来源：微细加工技术 年份：1990
近几年来,具有兆电子伏(以下简称MeV)能量的离子束在很多领域中获得广泛利用。它在VLSI等半导体离子注入中尤其可望取得崭新的进展。这是因为用MeV级能量进行离子注入时...
[期刊论文] 作者：浅利正敏, 开本亮, 吴健昌,,
来源：微细加工技术 年份：2004
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