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[学位论文] 作者：祝东远,,
来源： 年份：2012
极紫外（13.5nm）光刻技术是目前光学光刻领域中的顶级光刻技术，是业界公认最有希望实现最小线宽22nm及更小尺寸的下一代光刻技术，受到国内外高度重视。在极紫外光刻机中，极紫外光源......
[期刊论文] 作者：左保军,祝东远,张树青,李润顺,,
来源：激光与红外 年份：2010
当前半导体器件加工水平正在向22 nm方向发展,而最有希望实现这一尺寸的光刻技术即为EUV光刻技术。EUV光源所发出的13.5 nm辐射因为波长极短,物质对其吸收十分强烈,所以使采...
[期刊论文] 作者：张树青,王骐,祝东远,李润顺,刘畅,,
来源：Chinese Optics Letters 年份：2011
Wolter I collector is the best collector for extreme ultraviolet (EUV) lithography, which has a series of nested mirrors. It has high collection efficiency and...
[期刊论文] 作者：张树青,王骐,祝东远,李润顺,刘畅,
来源：ChineseOpticsLetters 年份：2011
Wolter I collector is the best collector for extreme ultraviolet (EUV) lithography, which has a series of nested mirrors. It has high collection efficiency and can obtain more uniform intensity distribution at the intermediate focus (IF). A......
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