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[会议论文] 作者：苟立;万静;冉均国;,
来源：第四届中国功能材料及其应用学术会议 年份：2001
金刚石膜具有高的X射线透过率、辐射硬度、杨氏模量、导热率,是新型的X射线掩模基膜材料.根据X射线光刻对基膜材料的要求,本文研究了微波等离子体CVD法生长的金刚石膜的应力...
[会议论文] 作者：苟立,万静,冉均国,赵纯朴,
来源：第12届全国高技术陶瓷学术年会 年份：2002
研究了Ar离子束刻蚀方式、离子束能量、刻蚀时间对抛光金刚石薄膜的影响.采用原子力显微镜观察抛光前后金刚石薄膜表面形貌、测试表面粒糙度并用XPS分析成分.结果表明:点刻蚀的离子抛光方法比较有效且抛光均匀,表面粒糙度可降为10nm左右,但在大面积、膜成分改变......
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