搜索筛选:
搜索耗时1.7758秒,为你在为你在102,285,761篇论文里面共找到 6 篇相符的论文内容
发布年度:
[期刊论文] 作者：谢传钵,
来源：光电工程 年份：1999
介绍用于"神光Ⅱ"激光聚变靶室的针孔相机的结构设计、工作原理、精度分析和研制结果。该针孔相机利用光学－ＣＣＤ－ＴＶ成象电动对准技术实现了对靶的对准，重复精度在Ｘ方向≤５μｍ，在Ｙ方向≤７μｍ。......
[期刊论文] 作者：谢传钵,
来源：光电工程 年份：1990
本文分析了FCG-1型仿形仪的静态精度,指出对静态精度有较大影响的因素是传感器的X,Y,Z三个轴的垂直度误差;阿贝误差;模指变形;温度。In this paper, the static accuracy o...
[期刊论文] 作者：谢传钵,
来源：光电工程 年份：1996
介绍了“１．５－２微米实用型分步重复投影光刻机”用的精密快速定位工台的设计，结构特点，精度分析，检测及使用情况。工件台由大行程Ｘ－Ｙ工件台，微动台和调平微转台组成。同时该工件台利用大行......
[期刊论文] 作者：谢传钵,
来源：光电工程 年份：1990
本文分析了FCG-1型仿形仪的静态精度,指出对静态精度有较大影响的因素是传感器的X,Y,Z三个轴的垂直度误差;阿贝误差;模指变形;温度。...
[期刊论文] 作者：谢传钵,,
来源：光学工程 年份：1981
集成电路的光刻除首次光刻不需要对准外,以后每次光刻都要求掩模图形与前一次光刻在硅片上的图形精确对准。对准时既要防止掩模与硅片之间的接触损伤和磨损掩模,又只允许亚...
[期刊论文] 作者：姚汉民,黄泽永,谢传钵,陈旭南,
来源：光电工程 年份：1992
本文介绍了参加SEMICON/WEST′91展览会所见到的国外光刻设备——新研制的制造亚微米器件(16Mb)用的半导体设备已面市。特别引人注目的是许多公司已推出它们的新型光刻设备—...
相关搜索：
