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[期刊论文] 作者：吴汉明,邝亚镭,
来源：电子工业专用设备 年份：2003
在0.13μm铜连线技术节点上,双镶嵌等离子体刻蚀的优化是最具有挑战性的问题之一.通过理论模型分析和实验对双镶嵌结构的刻蚀技术进行了研究.解释了等离子体电荷累积过程.提...
[期刊论文] 作者：吴汉明,邝亚镭,
来源：电子工业专用设备 年份：2003
在0.13μm铜连线技术节点上,双镶嵌等离子体刻蚀的优化是最具有挑战性的问题之一。通过理论模型分析和实验对双镶嵌结构的刻蚀技术进行了研究。解释了等离子体电荷累积过程。...
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