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[会议论文] 作者：江泽流,邵美姑,
来源：第九届全国电子束.离子束.光子束学术年会 年份：1997
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[期刊论文] 作者：江泽流,罗四维,吴翠英,邵美姑,,
来源：半导体情报 年份：1989
简述了电子束曝光技术及电子束抗蚀剂在微电子器件制造中的重要性,着重介绍了电子束正性抗蚀剂P(MMA-MAA)的研制过程及为使之达到实用化所进行的各项研究及其结果和应用情况...
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