搜索筛选:
搜索耗时1.2621秒,为你在为你在102,285,761篇论文里面共找到 137 篇相符的论文内容
发布年度:
[期刊论文] 作者：金曾孙,
来源：材料导报 年份：2001
随着大功率电子、光电子、微波器件以及超大规模IC技术的飞速发展,急需新的热沉材料,用高导热高绝缘金刚石膜代替目前常用的热沉材料,具有广阔的应用前景和市场容量。现...
[会议论文] 作者：金曾孙,
来源：全国薄膜学术讨论会 年份：1999
...
[会议论文] 作者：金曾孙,
来源：第三届全国固体薄膜学术会议 年份：1992
...
[期刊论文] 作者：祁山,金曾孙,
来源：薄膜科学与技术 年份：1991
...
[期刊论文] 作者：金曾孙,于三,
来源：吉林大学自然科学学报 年份：1990
本文研究了用热灯丝化学气相沉积方法在单晶硅衬底上制备金刚石薄膜时其成核密度与制备条件的关系。结果表明,衬底表面状态、衬底温度、灯丝温度、灯丝与衬底表面间距离等对...
[期刊论文] 作者：纪红,金曾孙,
来源：吉林大学自然科学学报 年份：1999
在镜面抛光硅衬底上加负偏压，利用微波等离子体化学气相沉积方法生长金刚石薄膜。通过改变偏压成核阶段的不同条件制备出一系列样品，与直接在镜面抛光硅衬底上不加偏压直接生长......
[期刊论文] 作者：皇甫萍,金曾孙,
来源：薄膜科学与技术 年份：1992
...
[期刊论文] 作者：顾长志,金曾孙,
来源：功能材料 年份：1997
重点介绍了金刚石膜的性质，应用领域及目前国内外研究现状。...
[期刊论文] 作者：姜志刚,金曾孙,
来源：人工晶体学报 年份：1997
为了提高金刚石膜的成品率、生长速率和膜的质量，本文建立了直流热阴极辉光ＰＣＶＤ法快速生长高品质金刚石膜的工艺。我们用该方法很容易制备出１ｍｍ以上的金刚石厚膜，热导率达１２Ｗ／ｃｍ·Ｋ以上。......
[期刊论文] 作者：顾长志,金曾孙,
来源：人工晶体学报 年份：1997
金刚石的热导率是所有物质中最高的，金刚石薄膜由于其较低的制作成本和较大的生长面积，使得它作为大功率电子器件的散热材料而具有广泛的应用前景。但是由于采用ＣＶＤ方法制备的金刚......
[期刊论文] 作者：金曾孙,吕宪义,
来源：人工晶体学报 年份：1990
本文采用热灯丝化学气相沉积法,以甲烷和氢气为原料气体,在用高温高压法合成的金刚石的(100)面上外延生长出金刚石,在(110)面和(111)面上生长出多晶金刚石微粒。更多还原...
[期刊论文] 作者：金曾孙,吕宪义,
来源：吉林大学自然科学学报 年份：1990
本文研究了用热灯丝化学气相沉积方法在硅、钼和碳化钨衬底上制备的金刚石膜的光致发光特性。更多还原...
[期刊论文] 作者：顾长志,金曾孙,
来源：吉林大学自然科学学报 年份：1997
采用灯丝热解化学气相沉积方法，在不同的碳源气体氢气中合成金刚石薄膜，并研究不同工艺条件下金刚石膜生长速率。结果表明，在较低的灯丝分解气体温度和较近的灯丝与衬底距离条件......
[期刊论文] 作者：金曾孙,吕宪义,
来源：高技术通讯 年份：1994
用热灯丝ＣＶＤ方法在Ｃ－ＢＮ单晶衬底上制备出金刚石膜，并且在Ｃ－ＢＮ（１００）面上观察到金刚石的异质外延。...
[期刊论文] 作者：金曾孙,吕宪义,
来源：高技术通讯 年份：1994
用电子增强热灯丝ＣＶＤ（化学汽相沉积）方法制备出膜厚为０．１－２ｍｍ的金刚石厚膜，研究了金刚石厚膜的耐磨性和热导特性，用它制作了金刚石膜焊接刀具和半导体激光器用金刚石膜热沉。更多还原......
[期刊论文] 作者：李春燕,金曾孙,
来源：功能材料 年份：2004
采用EA-CVD(Electron Assisted Chemical Vapor Deposition)方法制备金刚石厚膜,在反应气体(CH4+H2)中添加乙醇,在保持其它条件不变的情况下研究了不同乙醇流量对金刚石膜生...
[期刊论文] 作者：王秀琴,金曾孙,
来源：江苏工业学院学报 年份：2005
采用恒定电流密度控制方法,在碳酸钠-硅酸钠溶液体系中制备TA2纯钛微弧多孔氧化陶瓷膜,研究了阳极电流密度ja和阴/阳极电流密度比jc/ja对陶瓷膜的厚度和相结构的影响.实验发...
[期刊论文] 作者：金曾孙,吕宪义,
来源：高压物理学报 年份：1994
用热灯丝ＣＶＤ方法在多晶石墨衬底表面制备ＣＶＤ金刚石颗粒，并用这种石墨在高温高压条件下采用六面顶压机合成出高压金刚石。初步实验结果表明：采用其表面生长ＣＶＤ金刚石颗粒的石墨合成高压金......
[会议论文] 作者：金曾孙,顾长志,
来源：'96中国材料研讨会 年份：1996
...
[会议论文] 作者：顾长志,金曾孙,
来源：第五届全国固体薄膜学术会议 年份：1996
...
相关搜索：
