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为了提高金刚石膜的成品率、生长速率和膜的质量,本文建立了直流热阴极辉光PCVD法快速生长高品质金刚石膜的工艺。我们用该方法很容易制备出1mm以上的金刚石厚膜,热导率达12W/cm·K以上。制做的拉丝模的使用寿命是国产聚晶拉丝模的5倍以上。该方法制备金刚石膜的装置是在原直流辉光装置上改进而成,装置主要包括:电源、真空获得、进气系统、水冷系统,电极等。阴级用Ta制成,并间接水冷。基片采用Mo片、Si片等。原料气体使用H2、CH4、C2H5OH。其中C2H5OH用一路H2携带。乙醇瓶内气压维持常压,气