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[期刊论文] 作者：阙珑,孙国良,
来源：光电工程 年份：1995
从Ｈｏｐｋｉｎｓ公式出发，分析部分相干因子σ的物理意义，同时主要讨论在建立相移掩软件中部分相干因子σ的应用。...
[期刊论文] 作者：阙珑,孙国良,
来源：微细加工技术 年份：1995
本文将报导我们编制相移掩模模拟软件有关工作，分析其中几个重要参数的影响，同时在非相干，部分相干，以及干相光照明下对曝光线条边角的圆化建立了数学模型，并与实验结果加以比较。......
[期刊论文] 作者：阙珑,孙国良,冯伯儒,
来源：微细加工技术 年份：1995
本文将报导我们编制相移掩模模拟软件的有关工作，分析其中几个重要参数的影响，同时在非相干，部分相干，以及相干光照明下对曝光线条边角的圆化建立了数学模型，并与实验结果加以比较......
[期刊论文] 作者：阙珑,孙国良,冯伯儒,
来源：光电工程 年份：1995
从Ｈｏｐｋｉｎｓ公式出发，分析部分相干因子σ的物理意义，同时主要讨论在建立相移掩模软件中部分相干因子σ的应用Based on the Hopkins formula, the physical meaning of partial cohere...
[期刊论文] 作者：冯伯儒,孙国良,沈锋,阙珑,陈宝钦,崔铮,
来源：光电工程 年份：1996
本文系统地论述了提高光刻分辨率的相移掩模技术的基本原理、计算模拟和光刻曝光实验 ;给出了模拟和实验结果 ;研究表明 ,只有在一定的临界参数条件下 ,相移掩模才能明显地改...
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