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[期刊论文] 作者：陈旺富,,
来源：中小学教学研究 年份：2018
小学数学中高年级学生具备了一定的文字理解能力和表达能力,在教材呈现的素材逐渐增加了数学语言的比重。假如学生能准确理解并熟练转换数学语言,其就能掌握数学思维、表达和...
[学位论文] 作者：陈旺富,
来源：中国科学院研究生院 中国科学院大学 年份：2011
光学投影光刻的分辨力早在21世纪初就已经超越衍射极限分辨力，与摩尔定律的预测基本一致。将浸没式光刻和双重曝光技术相结合，目前光学光刻已进入32nm节点的时代，光刻工艺因子k1......
[期刊论文] 作者：周绍林,唐小萍,胡松,马平,陈旺富,严伟,
来源：微细加工技术 年份：2008
为了给实际的纳米光刻对准工作提供理论研究基础，主要分析推导了莫尔条纹复振幅以及光强的空间分布规律。在理论分析的基础上通过仿真，定量地确定了莫尔条纹复振幅分布的近似数......
[期刊论文] 作者：周绍林,唐小萍,胡松,马平,陈旺富,杨勇,严伟,,
来源：微纳电子技术 年份：2008
对准技术对光刻分辨力的提高有着重要作用。45nm节点以下的光刻技术如纳米压印等，对相应的对准技术提出了更高的要求。对光刻技术发展以来主要用于接近接触式和纳米压印光刻的......
[期刊论文] 作者：周绍林, 杨勇, 陈旺富, 严伟, 马平, 蒋文波, 胡松,,
来源：光学学报 年份：2009
针对两个物体或平面的相对位移和间隙的纳米级变化量，提出并研究了一种光栅测量方法。采用两组周期接近的微光栅重叠可以产生一组周期分布的条纹，条纹的周期相对于两光栅周期被......
[期刊论文] 作者：蒋文波,胡松,赵立新,严伟,杨勇,周绍林,陈旺富,
来源：光电工程 年份：2009
针对传统的光束整形算法在设计位相型衍射光学元件时效果差的缺点，本文提出了一种适合于位相型衍射光学元件设计的新混合算法。该混合算法是将变尺度BFGS算法融入遗传算法中，其......
[期刊论文] 作者：蒋文波,胡松,赵立新,杨勇,严伟,周绍林,陈旺富,,
来源：光学学报 年份：2010
光子筛作为一种新兴的纳米成像器件,具有分辨力高、体积小、重量轻、易复制等优点,被广泛地应用到纳米光刻、大型天文望远镜、航空航天摄像等领域。为了追求高分辨力,须将光...
[期刊论文] 作者：周绍林, 杨勇, 陈旺富, 严伟, 马平, 蒋文波, 胡松, 唐,
来源：光学学报 年份：2009
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[期刊论文] 作者：严伟,胡松,唐小萍,赵立新,杨勇,蒋文波,周绍林,陈旺富,,
来源：电子工业专用设备 年份：2008
随着器件特征尺寸的继续缩小，所需掩模的成本呈直线上升态势，为降低掩模成本，无掩模光刻技术成为人们研究的热点。介绍了一种基于DMD的步进式无掩模数字曝光方法，并对用于实现该......
[期刊论文] 作者：杨勇,胡松,姚汉民,严伟,赵立新,周绍林,陈旺富,蒋文波,李,
来源：微纳电子技术 年份：2008
首先介绍了光刻技术的发展及其面临的挑战。随着纳米加工技术的发展,纳米结构器件必将成为未来集成电路的基础,而纳米光刻技术是纳米结构制作的基础,基于表面等离子体的纳米...
[期刊论文] 作者：周绍林,陈旺富,杨勇,唐小萍,胡松,马平,严伟,张幼麟,
来源：光电工程 年份：2008
在纳米光刻中，采用周期相差不大的两光栅分别作为掩模和硅片上的对准标记。当对准光路通过这两个标记光栅时受到两次调制，发生双光栅衍射及衍射光的干涉等复杂现象，最后形成有规......
[期刊论文] 作者：杨勇,胡松,姚汉民,严伟,赵立新,周绍林,陈旺富,蒋文波,李展,,
来源：微纳电子技术 年份：2008
首先介绍了光刻技术的发展及其面临的挑战。随着纳米加工技术的发展,纳米结构器件必将成为未来集成电路的基础,而纳米光刻技术是纳米结构制作的基础,基于表面等离子体的纳米...
[期刊论文] 作者：严伟,佟军民,陈大鹏,胡松,赵立新,杨勇,蒋文波,周绍林,陈旺富,,
来源：四川大学学报(自然科学版) 年份：2009
光学读出式红外成像系统是近年来提出的一种新型红外成像技术,该技术是基于探测双材料微悬臂梁吸收红外辐射后的变形量.这种红外光学成像系统由微悬臂梁阵列和光学读出设备组...
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