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[会议论文] 作者:陈迪[1]雷蔚[1]王水[1]张大成[2]伊福廷[3]李昌敏[1]郭晓芸[1]毛海平[1], 来源:第四届全国微米/纳米技术学术会议 年份:2000
本文利用ICP硅深层刻蚀工艺,制备了一种全新的LIGA掩模板.与一般的LIGA掩模板比较,该掩模板的最大特色在于其支撑层和吸收层都是由硅材料构成,支撑层与吸收层之间没有结合力...
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