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[期刊论文] 作者：郑鹉,高居里,王艾玲,阎明朗,
来源：磁记录材料 年份：1995
本文用磁控溅射法制备了厚度２０－２００ｎｍ的ＮｉＦｅ合金薄膜。研究了热处理温度对ＮｉＦｅ薄膜电阻、各向异性磁电阻比和软磁性能的影响。适当温度下的热处理可以减小ＮｉＦｅ薄膜的电阻、增大其各向异性磁电阻比......
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